近日，那諾中國在“上海交通大學電子信息與電氣工程學院掩模板兆聲清洗機采購項目”的競標中，順利中標，這無疑是對NANO-MASTER綜合實力的又一次肯定！

本套設備是NANO-MASTER, INC. 開發(fā)的獨立立柜式單晶圓/掩模版清洗機SWC-4000，可用于清洗晶圓片、光盤、光學元件、陶瓷基底，或其它類似的平底部件。可以達到去除污染物、殘留物、或微塵顆粒等。系統(tǒng)的主要功能包含DI水的兆聲清洗、多四路的化學試劑清洗，以及帶異丙醇的高速甩干等。因此該系統(tǒng)對于單片清洗而言具有優(yōu)異的基底清洗能力，并且整個工藝處理時間可以控制在4分鐘內(nèi)。

SWC-4000把所有的清洗需要集成到一個緊湊的立柜中，旋轉清洗單元(SWC)、兆聲脈沖射流清洗器(PJC) 、和試劑容器以及所有的閥及傳感器都全部包含到該系統(tǒng)。Labview可編程的觸摸屏用戶界面位用于控制旋涂儀的操作。在工序執(zhí)行階段，產(chǎn)品的程序數(shù)、旋轉速度、剩余時間等信息都先顯示在用戶界面的屏幕上?？刂破鲿詣铀愠黾铀俣然驕p速度并提供不同的速度時間梯度。SWC-4000可以存儲多達25 套產(chǎn)品程序，每一套程序可以支持20個操作步驟，而在每一個步驟中可以設定以下參數(shù)：RPM轉速（維持的轉速）、RAMP加速梯度（多快時間達到那個速度）、Dwell運行時間（維持想要的速度的時間有多長）。

SWC-4000使用真空托盤固定晶圓片，并能夠在可控的時間周期內(nèi)以的轉速旋轉，因而可以保證操作具有超高的可重復性及設置的靈活性。掩模版是通過機械托盤來固定的，操作具有高度的可重復性并可設置。托盤可以互換。